電漿蝕刻機

Plasma Etching Machine

CC3

電漿蝕刻機

高密度等離子體 ,刻蝕速度快,勻流設計保證刻蝕均勻性<±3%

晶片溫度可控,工藝靈活性強,每批8片4寸晶片,生產效率高。
 

全自動控制,穩定可靠,重複性好。
 

■ 外部尺寸重量:

  • 長 : 4000 x 深:1650 x高:2030mm
     

■ 重    量 :

  • 重約250kg

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