電漿蝕刻機

Plasma Etching Machine

CC3

電漿蝕刻機

高密度等離子體 ，刻蝕速度快，勻流設計保證刻蝕均勻性<±3%

■ 晶片溫度可控，工藝靈活性強，每批8片4寸晶片，生產效率高。
 

■ 全自動控制，穩定可靠，重複性好。
 

■ 外部尺寸重量：

• 長 : 4000 x 深:1650 x高:2030mm
   

■ 重    量 :

• 重約250kg

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