一貫機_03全自動曝光機

Automatic exposure machine

Auto03

一貫機_03全自動曝光機

機台名稱型號:自動高產量光罩對準曝光機 Auto Exposurer3"、4"、5"、6" 300-CC 本設備為使用於半導體微影製程之光罩對準曝光機。

功能 : 以UV平行光源做1:1複製光罩之圖形至晶圓表面之光阻膜上。

■ 曝光燈源 : 光罩線寬複製能力,I-line正光阻1um厚度,hard contact 1um~2um,proximity 3um~5um。

■ 對準影像系統 : 自動對位能力,辨識幾何形狀清晰之align key可5um以內。

■ 產    能 : 對位製程,曝光時間3秒,每小時250~300片機械產能(不考量材料變異性退片)。
                   無對位僅曝光製程,曝光時間3秒,每小時280~360片機械產能(不考量材料變異性退片)。

■ 外部尺寸重量:

  • 寬1900 x 深1600 x高2400mm
       

■ 重    量 :

  • 重約1900kg

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